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20纳米制程取得重大进展
发表时间:2011-9-16
格罗方德半导体在20奈米制程上有了重大进展。透过利用EDA大厂包括CadenceDesignSystems、MagmaDesignAutomation、MentorGraphicsSynopsys的流程,GlobalFoundries已经成功制出测试晶片。GlobalFoundries并且已经准备就绪,要让客户评估该公司的20奈米设计样品。

GlobalFoundries执行长AjitManocha说,该公司20奈米制程的试制成功,也点燃了最新制程的战火,未来晶圆代工厂角力战将正式迈入20奈米新世纪。

20奈米制程是至今为止最先进的半导体技术。今年初的时候,IBM也曾经展示过全世界第一个20奈米制程晶圆,使用了HKMG和Gate-Last技术。三星也在七月中宣布完成了全球第一颗20奈米制程的测试晶片。

这四家EDA厂商都展示了他们的配置与布线工具及技术档案都能够支援20奈米制程相关的进阶规则。这些流程包括了双重曝影技术的元件库预备步骤,而这是一种复杂的平板印刷制程,对于20奈米以及更先进制程的设计业者形成了新的挑战。

这种20奈米测试晶片需要双重曝影、且经由各个EDA伙伴贡献出一个大型的配置与布线设计。每项设计在制程晶片之前,都经过GlobalFoundries彻底的效力验证,并以20奈米认可验证台进行检查。因同EDA厂商进行早期且广泛的20奈米合作,所有的设计都迅速结束,且已经成功进入晶片制作阶段。

GlobalFoundries测试晶片和所有元件库都将纳入完整的流程脚本,可提供给所有希望评估20奈米制程技术的客户。此外,GlobalFoundries也针对先进制程节点,包括3DIC在内,与封测厂Amkor达成了更广泛的合作关系。


 
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